Nvidia-ს ხელმძღვანელის აზრით, შესაბამისი შესაძლებლობის შექმნა მხოლოდ დროის საკითხია
წყარო: Toms Hardware. ქართული თარგმანი: შიკრიკი.
Jensen Huang thinks China will develop its own advanced lithography chipmaking tools by 2030 — Nvidia CEO says achievement of that capability 'is just a matter of time'

ტექსტი ავტომატურად ითარგმნა. წყარო: Toms Hardware.
ბოლო წლებში ტექნოლოგიური თვითკმარობისკენ ჩინეთის წინსვლა უდავოა. თუმცა ქვეყანამ ჯერ ვერ შექმნა ლითოგრაფიული დანადგარები, რომლებიც ASML-ის (ASML) სისტემებს გაუტოლდება. ამ ნაკლოვანებამ ქვეყნის ჩიპების წარმოება მნიშვნელოვნად შეაფერხა. Nvidia-ს აღმასრულებელი დირექტორი ჯენსენ ჰუანგი ვარაუდობს, რომ ჩინეთი საკუთარ მოწინავე ლითოგრაფიულ სისტემებს სულ რაღაც სამ ან ოთხ წელიწადში შექმნის.
ჰუანგმა The All-In Podcast-თან (The All-In Podcast) ინტერვიუში, 43:43-ზე თქვა: „ისინი ამ მიზანს 2030 წლისთვის მიაღწევენ. 2030 წელი უკვე ახლოსაა. ჩინეთზე ფიქრისას უნდა გავითვალისწინოთ, რომ ქვეყანა დიდი მოცულობით წარმოებაში მართლაც ძლიერია. ეს მხოლოდ დროის საკითხია [...] ამიტომ ორი ან სამი წელი ერთი გაელვებაა, არაფერია. მათი თვალსაზრისით, ისინი მიზანს უკვე მიღწეულად მიიჩნევენ“.
ჰუანგი ჩინეთის ტექნოლოგიურ განვითარებას ოპტიმისტურად აფასებს. კერძოდ, მისი თქმით, ჩინეთის ხელოვნური ინტელექტის ინდუსტრია აშშ-ის მოწინავე ლაბორატორიებს „უშუალოდ ჩამორჩება“. ეს შეფასება შეიძლება სწორი იყოს, თუ გავითვალისწინებთ, რამდენ კაპიტალს აბანდებს ჩინეთი ხელოვნურ ინტელექტში. თუმცა ზოგადად ჩინეთის ჩიპების ინდუსტრიისა და განსაკუთრებით ლითოგრაფიის სექტორის შეფასებისას ჰუანგი შესაძლოა ზედმეტად ოპტიმისტური იყოს.
ამჟამად ლითოგრაფიული დანადგარების წამყვან ჩინურ მწარმოებელს, Shanghai Micro Electronics Equipment-ს (SMEE), 193-ნანომეტრიანი ArF მშრალი სკანერის მასობრივი წარმოება შეუძლია. მისი გამოყენებით 90 ნმ კლასის ტექნოლოგიური პროცესით ჩიპების დამზადებაა შესაძლებელი. არსებული ცნობებით, კომპანიამ 28 ნმ კლასის პროცესისთვის გამოსადეგი ArF იმერსიული სკანერიც შექმნა. თუმცა საჯაროდ არაფერი ადასტურებს, რომ ასეთი სისტემები დიდი რაოდენობით იწარმოება და ჩიპების მასობრივ წარმოებაში გამოიყენება.
არსებული ცნობებით, Shanghai Aishengna Electronic Technology Group-მა (SMEE-ის დანაყოფმა ან მასთან დაკავშირებულმა კომპანიამ) პირველი იმერსიული სკანერი მიაწოდა. შესაძლოა, ამ დანადგარს 28 ნმ კლასის ტექნოლოგიური პროცესით ჩიპების დამზადება შეეძლოს. თუმცა მას ჩიპების მასობრივ წარმოებაში გამოყენებამდე ხანგრძლივი კვალიფიკაციის გავლა დასჭირდება. თუ დანერგვა ჩვეულ ვადებს გაჰყვება, ჩიპების მასობრივად წარმოებამდე წლები გავა.
თუნდაც პირველი სკანერები ჩინელმა ჩიპების მწარმოებლებმა 2026 წელს მიიღონ, 2028-2029 წლებამდე მათი ფართოდ გამოყენება ნაკლებად სავარაუდოა. ამასთან, ASML-ის ადრეული თაობის იმერსიულ სკანერთან გათანაბრების შემთხვევაშიც, ჩინელი მომწოდებლები კომპანიის თანამედროვე სისტემებს მნიშვნელოვნად ჩამორჩებიან. ამიტომ 2030 წლისთვის ArF იმერსიულ ლითოგრაფიაში ტექნოლოგიური თანასწორობა მეტად ნაკლებად სავარაუდოა.
ამავე გამოცემის სხვა ამბები.

Brazilian lawyers busted for attempting to manipulate court's AI with prompt injection hidden in filing — court's AI flags hidden text that demanded superficial legal scrutiny, lawyers fined $16,000
ექსტრემალური ულტრაიისფერი, EUV ლითოგრაფიის სფეროში ჩინეთი გაცილებით მეტად ჩამორჩება. არსებული ცნობებით, ჩინელმა მეცნიერებმა ლაზერით წარმოქმნილი პლაზმის წყარო შექმნეს. მას ამ ტექნოლოგიისთვის საჭირო 13,5-ნანომეტრიანი ტალღის სიგრძის სინათლის გამომუშავება შეუძლია. თუმცა ჩინეთი თვით EUV სკანერის პროტოტიპის აწყობასთანაც კი ახლოს არ ჩანს.
ჩინეთმა შეიძლება EUV-ის საცდელი ექსპოზიციის პლატფორმა ხარისხიანი იმერსიული DUV სისტემების წარმოების დაუფლებლადაც ააწყოს. ამის მიუხედავად, ძნელი წარმოსადგენია, რომ ჩინურმა კომპანიამ EUV სკანერების წარმოება შეძლოს, თუ DUV-სა და EUV-სთვის საერთო ურთულეს პრობლემებს ვერ გადაჭრის. საწარმოო ლითოგრაფიულ სკანერს განსაკუთრებული შესაძლებლობები სჭირდება, მათ შორის, ფირფიტისა და ფოტოშაბლონის გადაადგილების სისტემებში, გასწორებაში, ფენების შეთავსებაში, საპროექციო ოპტიკასა და მეტროლოგიაში.
თუ ჩინეთს იმერსიული DUV სისტემებისთვის ამ შესაძლებლობების სამრეწველო დონეზე ათვისება ჯერ კიდევ უჭირს, ნაკლებად სავარაუდოა, რომ გაცილებით რთული EUV-ისთვის ისინი უკვე მოაგვარა. თუმცა ხელოვნური ინტელექტის რბოლაში შესაძლო ეგზისტენციური საფრთხეებისა და ჩინეთის მთავრობის ტექნოლოგიური თვითკმარობისკენ სწრაფვის გათვალისწინებით, ეს მართლაც შეიძლება მხოლოდ დროის საკითხი იყოს.
თემებიჯენსენ ჰუანგიASMLNvidiaShanghai Aishengna Electronic Technology GroupShanghai Micro Electronics EquipmentThe All-In Podcastჩინეთიექსტრემალური ულტრაიისფერი ლითოგრაფია
შეადარე თარგმანი გამოცემის ორიგინალურ ტექსტს.
გამოქვეყნდა 17 სექტემბერი, 2026

Sam Altman meets with Samsung leadership to secure more RAM for data centers amid crushing shortages

Open-source USB tool unlocks Nvidia's half-speed GPU AI limiter on Windows — lifts GPU's FP16 math performance up to 65%, UEFI unlocker covers RTX 20, 30, and 40-series desktops and laptops
სხვა ამბები ამ განყოფილებიდან.

Popcorn Time: Verlassene Update-Server bedrohten Mac-Nutzer
A fully playable version of Portal prequel F-Stop leaked

Googles KI-Satellit sendet erste Daten aus dem All
კომენტარი (0)
გაგვიზიარე შენი აზრი.
კომენტარები ავტომატურად მოწმდება.
აზრის გასაზიარებლად შექმენი ანგარიში ან შედი.
კომენტარები ჯერ არ არის. დაწერე პირველი.